氧化鋯陶瓷氣氛燒結

　　氧化鋯陶瓷氣氛一般分為氧化、還原和中性三種，在氧化鋯陶瓷燒結中氣氛的影響是很復雜的。一般地說，在由擴散控制的氧化鋯陶瓷燒結中，氣氛的影響與擴散控制因素有關，與氣孑L內氣體的擴散和溶解能力有關。

　　氧化鋯陶瓷材料是由陰離子(07)擴散速率控制燒結過程，當它在還原氣氛中燒結時，晶體中的氧從表面脫離，從而在品格表面產生很多氧離子空位，使09擴散系數增大導致燒結過程加速。

　　氧化鋯陶瓷是不同氣氛下Q-A1203中02擴散系數與溫度的關系。在較慨的溫度下利用氣孑L內氣體在還原氣氛下易于逸出的原理可使材料致密，從而提高透光度。若氧化鋯陶瓷的燒結是由陽離子擴散速率控制，則在氧化氣氛中燒結，表面積聚了大量氧，使陽離子空位增加，則有利于陽離子擴散的加速而促進燒結。

　　進入封閉氣孑L內氣體的原子尺寸愈小愈易于擴散，氣孔消除也愈容易。如氬或氮那樣的大分子氣體，在氧化鋯陶瓷晶格內不易自由擴散而最終殘留在坯體中，但若是氖或氦那樣的小分子氣體，擴散性強，可以在品格內自由擴散，因而燒結與這些氣體的存在無關。

　　當樣品中含有鉛、鋰、鉍等易揮發物質時，控制燒結時的氣氛更為重要。氧化鋯陶瓷鈦酸鉛材料燒結時，必須要控制一定分壓的鉛氣氛，以抑制坯體中鉛的大量逸出，并保持坯體嚴格的化學組成，否則將影響材料的性能。